快科技5月13日消息,提到芯片制造,很多人都会第一时间想到光刻机,特别是EUV光刻机,毕竟全球只有荷兰ASML一家公司能生产,美国自己也无法生产。
在这些人的观念里,光刻机就好像是飞机、军舰中的发动机一样,只要没有ASML的光刻机甚至EUV光刻机,就没法制造半导体芯片一样。
不仅是国内的网友这么认为,唯光刻机论在海外也很有市场,似乎大部分网友都是这样想的,已经到了神化ASML的地步了,只要提到芯片制造就会强调光刻机会卡脖子,而有了光刻机,台积电这样的公司就能随便复制一样。
但在业内人士来看,这种观念显然是不合理的,专业半导体网站的专家dylan522p解释说,以成本来算,ASML的光刻机只占了半导体制造的20%,他们甚至不是业界最大的装备公司,AMAT应用材料才是。
哪怕是EUV光刻机,它也不(直接)制造出芯片,而是曝光了光刻胶并图案化,芯片是其他设备制造的,比如沉积、蚀刻、清洁、抛光、外延及离子注入等环节。
当然,他这个说法也有不少人不认同,不过大体上来说没错,在不同的制造中光刻机的占比不同,越是先进的工艺中EUV光刻机越重要,成本占比也会远超20%,因为要用光刻机多重曝光。
如果是内存或者闪存芯片制造,可能比光刻机更重要的是极高深宽比的蚀刻机,在这方面美国应用材料、KLA等公司要比ASML更卡脖子。
好消息是,国内的公司在蚀刻机这方面的进展比光刻机还要迅速,已经有不少重要突破了。
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